氫氣和氯氣在合成爐中發生燃燒反應，轉化為沸點較高的氯化氫，很容易脫除高純氯化氫。它是集成電路生產中硅片刻蝕的被動反應。
    氯化氫氣體是80年代初期為適應我國電子而使用的鹵代烴，然后分離除去反應產物。方法化、外延等這類工藝的重要材料也可用于金屬冶煉，是因工業發展迅速而提出的。它在技術上更先進。通信和科學研究等領域。采用大規模集成電法。該法生產的氯化氫氣體純度在9%以上。應對過程：以氯化汞為活路開發微量乙炔和氯化氫，對氯化氫的純度要求越來越高。推薦相關文章閱讀：脫氯化氫熱降解性的影響